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蝕刻(kè)液係列
堿(jiǎn)性蝕刻液

堿性(xìng)蝕(shí)刻液

  蝕刻液是(shì)通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體, 目前(qián)使用的蝕刻液有6大類型:酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化(huà)鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。堿性蝕刻液是比較常用(yòng)的蝕(shí)刻液(yè)係統(tǒng)之一。這些蝕刻液的是如何區分的(de)呢?主要是根據蝕刻液的主要成分不(bú)一樣(yàng),再一個就(jiù)是(shì)根據其(qí)用途、用(yòng)法(fǎ)的不一樣。在實際應用(yòng)中,我們需要根據處理目標物品的性質、處理目標(biāo)結果而擇優選取合適的蝕刻液類型,否則就很可能造成一定的經濟損失,或者處理(lǐ)效(xiào)率不高、效果不好等情況出現。

 堿性蝕刻液

  堿(jiǎn)性蝕刻液主要成分為氯化銅﹑氨(ān)水﹑氯化銨,補助成分為氯化鈷、氯化鈉、氯化銨(ǎn)或其它含(hán)硫化合物以(yǐ)改善(shàn)特性。堿性蝕刻液是通(tōng)過以上的機理來進行作用的。堿性蝕(shí)刻(kè)液係統裏麵的某些成分,如Cu2+濃度、氯化銨的濃度對蝕刻速率都有影響。Cu 2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究表明,Cu2+在135~165g/L時,蝕刻速率高且溶液穩定。當(dāng)然,除這(zhè)些成分影響之外(wài),PH值、蝕刻液的溫度等都對蝕刻效(xiào)果有很大的影響。

  堿性蝕刻液(yè)具有蝕刻速率快(可達70μm/min以上),側蝕小;溶銅能力高,蝕刻容易控製(zhì)的特點,故它一般適用於多層印製板(bǎn)的外層電路圖形的製作(zuò)及純錫印製板的蝕刻。

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