蝕刻液子液是一類（lèi）沒有任何磷、氯添加劑的水基（jī）拋光劑（jì）的拋光液有著良好的去汙（wū），防鏽，清洗緩衝和增光功（gōng）能，同時能使金屬加工製品超過本來光澤的蝕刻液（yè）。具有穩（wěn）定、無毒，對生態環境無汙（wū）染等（děng）特（tè）點。

蝕刻液（yè）的主要成份：CuCL2·2H2O，HCl，NaCl，NH4Cl，H2O 酸性氯化銅蝕刻過程的主要化學反應（yīng）在蝕刻過程中，氯銅中的Cu2+具有氧化性，能（néng）將板氧化成（chéng）Cu¹⁺，其反應如下：蝕刻反應：Cu+CuCl^2->Cu₂Cl₂ 形成的（de）Cu₂Cl₂是不易（yì）溶於（yú）水的在（zài）有過量的Cl^-存在下（xià），能形成可溶（róng）性的絡合離子，其反應如下：

絡合反應（yīng）：Cu₂Cl₂ + 4Cl^- —>2[CuCl₃]^2-隨著銅（tóng）的（de）蝕刻，溶液中的Cl¹⁺越來越多，蝕刻能力很快就會下（xià）降，直到最後失去效能（néng）。為保持蝕刻能力，可以過溶液再生的方（fāng）式將Cu1+重新生產CU2⁺，保持蝕刻能力. 蝕（shí）刻（kè）液的再生：再（zài）生的原理主要是利（lì）用氧化劑將溶液中的Cu¹⁺氧化成Cu²⁺。

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